特許
J-GLOBAL ID:200903003388753620

連続式の熱処理方法及び連続式の熱処理炉

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (2件): 近藤 利英子 ,  吉田 勝広
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2006-289746
公開番号(公開出願番号):特開2007-147264
出願日: 2006年10月25日
公開日(公表日): 2007年06月14日
要約:
【課題】多様な処理条件に対して適用でき、大面積のガラス基板等に対し、均一でムラのない安定した迅速な熱処理を連続的に行える方法であり、該方法を実行する熱処理炉がコンパクトである経済的な熱処理方法及び熱処理炉の提供。【解決手段】互いに異なる設定温度に昇温されている直列に配置した2以上のバッチ式の加熱室を用い、その加熱室内の表面積と同程度又は小さい表面積をもつ被加熱物を順次、各加熱室に移動させながら所望の温度になるまで熱処理する連続式の熱処理方法であって、各加熱室の設定温度を予め放射伝熱量を用いて、各加熱室における被加熱物に対する熱処理時間が同一となるように決定し、設定温度の低い加熱室の順に被加熱物を移動させながら熱処理を行うことを特徴とする連続式の熱処理方法及び該方法を実行する連続式の熱処理炉。【選択図】図4
請求項1:
互いに異なる設定温度に昇温されている直列に配置した2以上のバッチ式の加熱室を用い、その加熱室内の表面積と同程度又は小さい表面積をもつ被加熱物を順次、各加熱室に移動させながら所望の温度になるまで熱処理する連続式の熱処理方法であって、 各加熱室の設定温度を、予め下記式を用いて算出した各加熱室内における被加熱物の表面と加熱室の内壁面の2面間における放射伝熱量から計算によって求められる、当該加熱室における処理時間に対して変化する被加熱物の温度の値を用い、被加熱物が最終の加熱室で受ける熱処理によって所望の温度になり、且つ、各加熱室における被加熱物に対する熱処理時間が同一となるように決定し、 設定温度の低い加熱室の順に被加熱物を移動させながら熱処理を行うことを特徴とする連続式の熱処理方法。
IPC (10件):
F27B 9/40 ,  F27B 9/02 ,  F27B 9/24 ,  F27D 7/04 ,  F27D 11/02 ,  F27D 11/12 ,  F27D 19/00 ,  F27D 3/12 ,  H05B 6/64 ,  C04B 35/64
FI (11件):
F27B9/40 ,  F27B9/02 ,  F27B9/24 R ,  F27D7/04 ,  F27D11/02 A ,  F27D11/12 ,  F27D19/00 A ,  F27D3/12 S ,  H05B6/64 D ,  C04B35/64 C ,  C04B35/64 F
Fターム (27件):
3K090AA01 ,  3K090AA02 ,  3K090AB20 ,  3K090CA02 ,  3K090EA03 ,  3K090EB02 ,  4K050AA02 ,  4K050BA16 ,  4K050BA17 ,  4K050CA13 ,  4K050CC08 ,  4K050CD06 ,  4K050CD07 ,  4K050EA07 ,  4K055AA06 ,  4K055HA01 ,  4K055HA21 ,  4K056AA09 ,  4K056CA18 ,  4K056FA04 ,  4K063AA05 ,  4K063BA06 ,  4K063BA12 ,  4K063CA01 ,  4K063DA28 ,  4K063FA02 ,  4K063FA82
引用特許:
出願人引用 (14件)
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