特許

J-GLOBAL ID：200903003392816385

ピンチプラズマの発生方法および装置

発明者： 角舘 洋三 ,  藤原 修三 ,  出野 裕 ,  杉山 修一
出願人/特許権者： 工業技術院長 ,  株式会社富士電機総合研究所
代理人 (2件)： 山口 巖 (外1名) ,  山口 巖
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-346856
公開番号（公開出願番号）：特開平10-189288
出願日： 1996年12月26日
公開日（公表日）： 1998年07月21日
要約：

【要約】【課題】電源電圧が低くても確実にピンチプラズマを形成する方法および装置を提供する。【解決手段】真空容器内に電極対1,2を収納し、ガス3を間隙7内に筒形に流すとともに、その筒形の軸方向を上方に向けた状態で間隙7に電圧を印加してピンチプラズマ3Bを発生させる方法において、間隙7内で筒形に流れるガス3に周回状にレーザ光12を照射する。

請求項（抜粋）：

真空容器内に電極対を収納し、ガスを電極対の間隙内に筒形に流すとともに、その筒形の軸方向を電極対の間隙長方向に向けた状態で電極対に電圧を印加してピンチプラズマを発生させる方法において、前記電極対の間隙内で筒形に流れるガスに周回状にレーザ光を照射することを特徴とするピンチプラズマの発生方法。

IPC (3件)：

H05H 1/06 ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/302

FI (3件)：

H05H 1/06 ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/302 Z

引用特許：

審査官引用 (1件)

• 真空アーク装置及び真空アーク点火方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平3-245752   出願人：新日本製鐵株式会社