特許

J-GLOBAL ID：200903003399775080

光ディスク原盤製造方法

発明者： 大平 博之 ,  山岡 信樹 ,  村上 裕
出願人/特許権者： パイオニアビデオ株式会社 ,  パイオニア株式会社
代理人 (1件)： 藤村 元彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-093837
公開番号（公開出願番号）：特開平8-287526
出願日： 1995年04月19日
公開日（公表日）： 1996年11月01日
要約：

【要約】【目的】 歩留まりの高くかつ、鮮明でかつ大きな文字等のパターンが表示可能な光ディスク原盤の製造方法を提供する。【構成】 記録面の一方は情報信号を担うピット列からなる同心円状又は螺旋状に形成された記録トラックを有し、かつ記録面の他方は入射光により回折光を生ぜしめる回折格子領域と回折格子領域内に形成された入射光により回折光を生ぜしめない表示パターン領域とを有する、両記録面にピット列が形成され得る反射型光ディスクのための光ディスク原盤を製造する方法であって、主面上に回折格子領域を有する予備光ディスク原盤を形成する工程と、予備光ディスク原盤の回折格子領域内における表示パターン領域に対応する部分だけを除去する工程と、を有する。

請求項（抜粋）：

記録面の一方は情報信号を担うピット列からなる同心円状又は螺旋状に形成された記録トラックを有し、かつ記録面の他方は入射光により回折光を生ぜしめる回折格子領域と前記回折格子領域内に形成された前記入射光により回折光を生ぜしめない表示パターン領域とを有する、両記録面にピット列が形成され得る反射型光ディスクのための光ディスク原盤を製造する方法であって、主面上に前記回折格子領域を有する予備光ディスク原盤を形成する工程と、前記予備光ディスク原盤の前記回折格子領域内における前記表示パターン領域に対応する部分だけを除去する工程と、を有することを特徴とする光ディスク原盤製造方法。