特許

J-GLOBAL ID：200903003404734142

ベータ-アノマーに富む2-デオキシ-2,2-ジフルオロ-D-リボフラノシル-アリールスルホネートの製造法

発明者： タ-セン・チョウ ,  チャールズ・デイビッド・ジョーンズ
出願人/特許権者： イーライ・リリー・アンド・カンパニー
代理人 (1件)： 青山 葆 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-149146
公開番号（公開出願番号）：特開平6-056864
出願日： 1993年06月21日
公開日（公表日）： 1994年03月01日
要約：

【要約】 (修正有)【構成】 下記式(I)[式中、Xはヒドロキシ保護基、Yは(置換)アリールスルホネート]で表されるベータ-アノマーに富むリボフラノシル誘導体を製造するための立体選択的方法であって、下記式(II)で表されるラクトールを不活性溶媒中で酸補集剤およびスルホネート化試薬と接触させることからなる方法。【効果】 上記の方法によりベータ-アノマー誘導体が立体選択的に生成する。

請求項（抜粋）：

式:【化1】[式中、Xはそれぞれヒドロキシ保護基から独立に選択され、Yはアリールスルホネートおよび置換アリールスルホネートからなる群から選択される]で表されるベータ-アノマーに富むリボフラノシル誘導体を製造するための立体選択的方法であって、式:【化2】[式中、Xは上記と同意義である]で表されるラクトールを不活性溶媒中で酸補集剤およびスルホネート化試薬と接触させることからなる方法。

引用特許：

審査官引用 (1件)

• 特開昭62-029527