特許

J-GLOBAL ID：200903003411806280

アクテイブマトリクス表示装置の線欠陥修正方法

発明者： 金森 謙 ,  山口 善久 ,  入江 勝美 ,  丸本 英治
出願人/特許権者： シヤープ株式会社
代理人 (1件)： 山本 秀策
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-170127
公開番号（公開出願番号）：特開平5-019294
出願日： 1991年07月10日
公開日（公表日）： 1993年01月29日
要約：

【要約】 (修正有)【目的】 アクティブマトリクス表示装置の信号線の断線に起因する線欠陥を修正し、製品の歩留りを向上する。【構成】 ゲートバスライン21から絵素電極41に向けて突出したゲートバス支線22の先端部をTFT31のゲート電極とし、この上にゲート絶縁膜を挟んでソース電極32とドレイン電極33を重畳してTFT31を形成する。一方、ソースバスライン23には絵素電極41に向けてソースバスライン突出部46を形成し、ゲート絶縁膜を挟んでこの上に第1導電体片47および第2導電体片48を重畳して冗長構造を形成する。断線に起因する線欠陥を検出すると、ゲートバス支線22の基端部、ゲートバス支線22とソース電極32およびドレイン電極との重畳部、ソースバスライン突出部46と第1導電体片47との重畳部、第1、第2導電体片47、48の重畳部にレーザー光を照射し、断線発生部の側方にバイパスラインを形成して線欠陥を解消する。

請求項（抜粋）：

絶縁性基板上に走査線および信号線を格子状に配線し、該走査線および信号線で囲まれた領域に絵素電極をそれぞれ配設すると共に、該走査線から該絵素電極に向けて突出形成された走査線支線の上又は下に該走査線、該信号線および該絵素電極にそれぞれ接続されたスイッチング素子を有するアクティブマトリクス基板であって、該スイッチング素子が該走査線支線とソース電極および該絵素電極とが絶縁膜を挟んで重畳された立体構造をとり、かつ該信号線から該絵素電極に向けて突出形成され、該絵素電極と電気的に非接触の信号線突出部と、一端部が絶縁膜を挟んで該信号線突出部に重畳された第1導電体片と、該第1導電体片の他端部に絶縁膜を挟んで重畳され、該絵素電極と電気的に接触し、該信号線突出部と電気的に非接触の第2導電体片とで形成される冗長構造を有するアクティブマトリクス基板を作製する工程と、該アクティブマトリクス基板に対向電極が形成された対向電極側基板を貼り合わせ、両基板間に表示媒体を封入してアクティブマトリクス表示装置を作製する工程と、両基板を貼り合わせた状態の該信号線に信号電圧を印加して該スイッチング素子を駆動し、これにより該アクティブマトリクス表示装置を作動させて動作不良の信号線を光学的に検出する工程と、検出工程で動作不良の信号線の断線が検出されると、断線部に最近接する該絵素電極を駆動する該スイッチング素子の該走査線支線とソース電極が重畳する領域、該走査支線とドレイン電極が重畳する領域、該走査線支線の該走査線から分岐された部分、該信号線突出部と該第1導電体片との重畳部および該第1導電体片と該第2導電体片との重畳部に光エネルギを照射する工程とを含むアクティブマトリクス表示装置の線欠陥修正方法。

IPC (6件)：

G02F 1/136 500 ,  G02F 1/13 101 ,  G02F 1/133 550 ,  G02F 1/1343 ,  H01L 27/12 ,  H01L 29/784