特許
J-GLOBAL ID:200903003412003440

液晶表示素子の製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 鈴江 武彦
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平3-208202
公開番号(公開出願番号):特開平5-045653
出願日: 1991年08月20日
公開日(公表日): 1993年02月26日
要約:
【要約】【目的】基板を汚染せず、しかも簡単に液晶配向膜を配向処理することができる液晶表示素子の製造方法を提供することを目的とする。【構成】対向する一対の透明基板と、前記透明基板の対向する主面上に形成された透明電極と、前記透明電極上に形成され、表面に凹凸を有する高分子液晶配向膜と、前記基板間に封入された液晶材料とを具備する液晶表示素子の製造方法であって、前記高分子液晶配向膜の表面の凹凸を所定の凹凸パターンを有する転写型からその凹凸パターンを転写することにより形成するものであることを特徴とする。
請求項(抜粋):
対向する一対の透明基板と、前記透明基板の対向する主面上に形成された透明電極と、前記透明電極上に形成され、表面に凹凸を有する高分子液晶配向膜と、前記基板間に封入された液晶材料とを具備する液晶表示素子の製造方法であって、前記高分子液晶配向膜の表面の凹凸を所定の凹凸パターンを有する転写型からその凹凸パターンを転写することにより形成するものであることを特徴とする液晶表示素子の製造方法。
IPC (2件):
G02F 1/1337 ,  G02F 1/1337 520
引用特許:
審査官引用 (5件)
  • 特開昭62-295026
  • 特開平4-172320
  • 特開平4-372931
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