特許

J-GLOBAL ID：200903003426999875

スルフィニル基またはスルホニル基を含む環状フェノール硫化物及びその製造方法

発明者： 熊谷 仁志 ,  宮成 節子 ,  宮野 壮太郎
出願人/特許権者： 株式会社コスモ総合研究所 ,  コスモ石油株式会社
代理人 (1件)： 萩野 平 (外3名)
公報種別：再公表公報
出願番号（国際出願番号）：JP1997002789
公開番号（公開出願番号）：WO1998-009959
出願日： 1997年08月08日
公開日（公表日）： 1998年03月12日
要約：

【要約】一般式(1)(式(1)中、Xは水素原子、炭化水素基またはアシル基であり;Yは水素原子、炭化水素基、ハロゲン化炭化水素基、-COR1、-OR2、-COOR3、-CN、-CONH2、-NO2、-NR4R5、ハロゲン原子、-SO4R6又は-SO3R7であり、R1、R2、R3、R4、R5、R6又はR7は水素原子、又は炭化水素基であり;ZはS、スルフィニル基、スルホニル基の群の中から選ばれる基であり;nは4〜12の整数であり、複数のX又はYはそれぞれ同一であってもよいし、異なってもよく、また複数のZのうち少なくとも一つのZは、スルフィニル基あるいはスルホニル基である。)で表されることを特徴とする少なくとも1つのスルフィニル基又はスルホニル基を含む環状フェノール硫化物、およびその製造方法。

請求項（抜粋）：

一般式(1)(式(1)中、Xは水素原子、炭化水素基またはアシル基であり;Yは水素原子、炭化水素基、ハロゲン化炭化水素基、-COR1、-OR2、-COOR3、-CN、-CONH2、-NO2、-NR4R5、ハロゲン原子、-SO4R6又は-SO3R7であり、R1、R2、R3、R4、R5、R6又はR7は水素原子、又は炭化水素基であり;ZはS、スルフィニル基、スルホニル基の群の中から選ばれる基であり;nは4〜12の整数であり、但し、複数のX又はYはそれぞれ同一であってもよいし、異なってもよく、また複数のZのうち少なくとも1つのZは、スルフィニル基あるいはスルホニル基である。)で表されることを特徴とする少なくとも1つのスルフィニル基又はスルホニル基を含む環状フェノール硫化物。

IPC (1件)：

C07D341/00