ガラス基板洗浄方法

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：井桁貞一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-044197
公開番号（公開出願番号）：特開平5-243200
出願日： 1992年03月02日
公開日（公表日）： 1993年09月21日
要約：

【要約】【目的】本発明は,ガラス基板の洗浄方法に関し,純水内を上下動してリンスする際にガラス基板上に発生する静電気を抑制し,パターンの放電破壊やゴミの付着を防止することを目的とする。【構成】基板ホルダ1内に保持したガラス基板2を洗浄槽3内の純水4中で上下動させてリンス洗浄する方法であって,該ガラス基板2の上下動に対して直角方向に磁界をかけ, 該ガラス基板2上に発生する正負の電荷5を,それぞれガラス基板2面の片側に移動させ, 電荷5を接地線6に移動させるように構成する。

請求項（抜粋）：

基板ホルダ(1) 内に保持したガラス基板(2) を洗浄槽(3) 内の純水(4) 中で上下動させてリンス洗浄する方法であって,該ガラス基板(2) の上下動に対して直角方向に磁界をかけ, 該ガラス基板(2)上に発生する正負の電荷(5) をそれぞれ該ガラス基板(2) 面の片側に移動させ,該電荷(5) を接地線(6) に移動させることを特徴とするガラス基板の洗浄方法。

IPC (3件)：

H01L 21/304 341 , B08B 3/04 , B08B 3/10

前のページに戻る