特許
J-GLOBAL ID：200903003429263640
基板の加熱方法および加熱炉
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
樺澤 襄 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-336216
公開番号（公開出願番号）：特開平6-186549
出願日： 1992年12月16日
公開日（公表日）： 1994年07月08日
要約：
【要約】【目的】 微小なダストがガラス基板の表面に付着することを防止できる加熱炉を提供する。【構成】 気体供給孔25からガラス基板Gの上面に、あらかじめ加熱した気体を供給して、パンチングプレート26とガラス基板Gとの間の空間の気圧をガラス基板搬送機構15が位置する空間より高い気圧にする。気体はフード21の気体供給筒部23から気体供給孔25を介してガラス基板Gの上面に流れ、ガラス基板Gおよび下縁部22の間隙からガラス基板搬送機構15が位置する空間に流れる。ビーム保持機構18または周囲から、微小なダストが飛散しても、ガラス基板G側に流れず排気ポート14から排気する。ガラス基板搬送機構15から発生した微小なダストを、舞い上がってきても流れ出てくる気流により押し戻すため、ガラス基板Gの上部への侵入ができない。微小なダストがガラス基板Gの表面に付着しない。
請求項（抜粋）：
密閉された炉体内で基板を搬送し、この炉体内でこの搬送された基板を加熱する加熱方法において、前記炉体内でこの基板の上面に加熱された気体を供給してこの基板の上面の気圧を周囲より高くした状態で加熱することを特徴とする基板の加熱方法。
引用特許：
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