特許

J-GLOBAL ID：200903003448223048

回転式基板処理装置

発明者： 清瀬 浩巳
出願人/特許権者： 大日本スクリーン製造株式会社
代理人 (1件)： 小谷 悦司 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-362573
公開番号（公開出願番号）：特開2000-188276
出願日： 1998年12月21日
公開日（公表日）： 2000年07月04日
要約：

【要約】【課題】 小型で、しかも基板処理に要するランニングコストを低く抑えながら、基板への処理液の再付着を防止することができる回転式基板処理装置を提供する。【解決手段】 カップ18にヒータ20が取り付けられ、ヒータコントローラ22によって駆動制御される。このように、カップ18は加熱されているので、回転している基板Sからカップ18の内壁面18aに向けて飛散してくる液滴は瞬間的に、あるいは次の液滴が飛散してくるまでに蒸発しており、カップ18に衝突した液滴が基板側に戻って基板表面に再付着するのを防止することができる。

請求項（抜粋）：

その表面に処理液が供給される基板を略水平姿勢で回転させて処理液を基板外縁部に向けて遠心拡張させるとともに、前記基板から遠心方向に飛散する処理液をカップで捕集して回収する回転式基板処理装置において、前記カップを加熱して前記カップに付着する処理液を蒸発させる加熱手段を備えたことを特徴とする回転式基板処理装置。