特許
J-GLOBAL ID：200903003464754487

化粧用またはパーソナルケア用組成物

発明者：
ジエラルド・アダムズ

ジエラルド・アダムズ について

, 
イザツト・コウシユデル

イザツト・コウシユデル について


出願人/特許権者：
ユニリーバー・ナームローゼ・ベンノートシヤープ

ユニリーバー・ナームローゼ・ベンノートシヤープ について


代理人 (1件)： 川口 義雄 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-066739
公開番号（公開出願番号）：特開2002-284652
出願日： 2002年03月12日
公開日（公表日）： 2002年10月03日
要約：
【要約】【課題】 特に高湿度条件下でのヘアスタイリングポリマーの皮膜形成性を改善したヘアスタイリングポリマーを含む化粧用またはパーソナルケア用組成物を提供すること。【解決手段】 化粧用あるいはパーソナルケア用組成物は酸性官能基、酸性官能基に由来するアニオン基、あるいは前記基の混合物から選択される1つあるいは複数の基を有するヘアスタイリングポリマーと、アミノ基、アミノ基の酸塩、あるいは前記基の混合物から選択される1つあるいは複数の基を有する、部分あるいは完全フッ素化化合物であって、1個の芳香環を含む部分あるいは完全フッ素化化合物と、化粧品として許容される希釈剤あるいは担体とを含む。この組成物は高湿度条件下で特に有効である。
請求項（抜粋）：
酸性官能基、酸性官能基に由来するアニオン基、あるいは前記基の混合物から選択される1つあるいは複数の基を有するヘアスタイリングポリマーと、アミノ基、アミノ基の酸塩、あるいは前記基の混合物から選択される1つあるいは複数の基を有する、部分あるいは完全フッ素化化合物であって、1個の芳香環を含む部分あるいは完全フッ素化化合物と、化粧品として許容される希釈剤あるいは担体とを含む化粧用あるいはパーソナルケア用組成物。
Fターム (23件)：
4C083AB031 ,  4C083AB032 ,  4C083AB051 ,  4C083AB151 ,  4C083AC101 ,  4C083AC102 ,  4C083AC172 ,  4C083AC212 ,  4C083AC312 ,  4C083AC532 ,  4C083AC541 ,  4C083AC551 ,  4C083AC552 ,  4C083AD072 ,  4C083AD092 ,  4C083AD151 ,  4C083AD152 ,  4C083AD172 ,  4C083BB53 ,  4C083CC32 ,  4C083CC33 ,  4C083DD08 ,  4C083DD41
引用特許：
出願人引用 (3件) 審査官引用 (3件)

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