特許

J-GLOBAL ID：200903003475335567

イオン化装置

発明者： 内田 剛史
出願人/特許権者： 株式会社島津製作所
代理人 (1件)： 小林 良平
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-203082
公開番号（公開出願番号）：特開2000-036280
出願日： 1998年07月17日
公開日（公表日）： 2000年02月02日
要約：

【要約】【課題】 少流量である反応ガス導入量の調整を容易に行う。【解決手段】 抵抗管22の上流にスプリット流路28を分岐して設け、その上流とスプリット流路28とにそれぞれ流量制御弁27、29を設ける。第2流量制御弁29は、イオン化室11への反応ガス導入量に応じて計算された目標圧力P1に圧力計24の検出ガス圧が一致するようにスプリット流量を調節する。一方第1流量制御弁27は、充分なスプリット流量と反応ガス導入量とを加算した流量の反応ガスを流す。その結果、抵抗管22には所望の導入量f1の、スプリット流路28にはその残りの大部分の流量f2の反応ガスが流れ、目標圧力を修正するとすぐに導入量が追従して変化する。

請求項（抜粋）：

イオン化室に反応ガスを導入してイオン化を行うイオン化装置において、a)イオン化室に出口端が接続された抵抗管と、b)該抵抗管の入口端側において、その上流から流れてくる反応ガスを分岐するスプリット流路と、c)スプリット流路と抵抗管との分岐点より上流側に設けられた圧力検出手段と、d)該圧力検出手段より上流側に設けられ、抵抗管及びスプリット流路の両者に流れる反応ガスの総流量を所定流量に調節する第1流量調節手段と、e)前記スプリット流路上に設けられ、前記圧力検出手段による検出値が所定値になるようにスプリット流量を調節する第2流量調節手段と、を備えることを特徴とするイオン化装置。

IPC (3件)：

H01J 49/04 ,  G01N 27/62 ,  H01J 49/10

FI (3件)：

H01J 49/04 ,  G01N 27/62 G ,  H01J 49/10

Fターム (5件)：

5C038EE01 ,  5C038EF02 ,  5C038EF33 ,  5C038GG06 ,  5C038GH04