特許
J-GLOBAL ID：200903003483806870
光導波路作製方法およびその装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
三好 秀和 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-062550
公開番号（公開出願番号）：特開平8-262250
出願日： 1995年03月22日
公開日（公表日）： 1996年10月11日
要約：
【要約】【目的】 高速で成膜およびエッチング可能な光導波路作製方法およびその装置を提供する。【構成】 誘導結合プラズマプロセスを用いて基板101に光導波路の成膜及びコア層105のパターニングを行う。また、基板101に印加するバイアス電圧の有無ないし大小の調節により、光導波路を構成するクラッド層113,103とコア層105を同一反応ガスで形成する。これに用いる光導波路作製装置1では、排気装置67で真空状態とされ、ガス供給装置49,51で反応ガスを供給されたチャンバ3の外側に設けられたリング状のアンテナ19を高周波印加して、誘電体窓13を通してチャンバ3内にプラズマ71を発生させる。このプラズマ71がステージ47上に載置されているワーク69上に成膜する。この時、前記ステージ47に電気的に接続されると共に水を流せる配管85がバイアス用の高周波電源を印加すると共に、冷却水を流してステージ47を冷却するものである。
請求項（抜粋）：
光導波路の成膜工程およびコア層のパターニングを誘導結合プラズマプロセスにて行うことを特徴とする光導波路作製方法。
IPC (5件)：
G02B 6/13
, C23C 16/50
, C23F 4/00
, H01L 21/205
, H01L 21/3065
G02B 6/12 M
, C23C 16/50
, C23F 4/00 C
, H01L 21/205
, H01L 21/302 B
