特許

J-GLOBAL ID：200903003488083605

フォトレジスト用ノボラック樹脂の製造方法およびポジ型フォトレジスト組成物

発明者： 梅村 光雄 ,  小林 美貴
出願人/特許権者： 信越化学工業株式会社
代理人 (1件)： 好宮 幹夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-241115
公開番号（公開出願番号）：特開平10-060067
出願日： 1996年08月23日
公開日（公表日）： 1998年03月03日
要約：

【要約】 (修正有)【課題】 アルカリ溶解速度が十分に制御され、その結果0.4μm程度のパターンの形成を可能とするフォトレジスト用ノボラック樹脂を開発する。【解決手段】 m-クレゾールと、一般式(I)【化1】(式中、xは1、2または3である。)で示される、両末端にm-クレゾールが結合した多核体の混合物と、ホルムアルデヒドとを、二価金属の有機酸塩の触媒の存在下で付加縮合させてフォトレジスト用ノボラック樹脂を製造する。

請求項（抜粋）：

m-クレゾールと、一般式(I)【化1】(式中、xは1、2または3である。)で示される、両末端にm-クレゾールが結合した多核体の混合物と、ホルムアルデヒドとを、二価金属の有機酸塩の触媒の存在下で付加縮合させる、ことを特徴とするフォトレジスト用ノボラック樹脂の製造方法。

IPC (5件)：

C08G 8/08 NBK ,  C23F 1/00 102 ,  G03F 7/022 ,  H01L 21/027 ,  G03F 7/023 511

FI (5件)：

C08G 8/08 NBK ,  C23F 1/00 102 ,  G03F 7/022 ,  G03F 7/023 511 ,  H01L 21/30 502 R