特許

J-GLOBAL ID：200903003494953557

新規カルバペネム誘導体

発明者： 今村 英朗 ,  山田 耕司 ,  橋爪 照隆
出願人/特許権者： 萬有製薬株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-278971
公開番号（公開出願番号）：特開2002-088083
出願日： 2000年09月14日
公開日（公表日）： 2002年03月27日
要約：

【要約】【課題】本発明は、新規カルバペネム化合物及びその製造方法に関する。【解決手段】式(1)【化1】(式中、R1は、水素原子又はメチル基を表し、R2は水素原子又は水酸基の保護基を表し、R3は水素原子又はカルボキシル基の保護基を表し、R4は、水素原子又はアミノ基の保護基を表し、R5は、水素原子、アミノ基の保護基又は置換されていてもよい以下の基[ホルムイミドイル基、アセトイミドイル基、アミジノ基、低級アルカノイル基、低級アルコキシカルボニル基、低級アルキル基、アルケニル基若しくはアラルキル基]を表し、nは0乃至4の整数を表す。)で表される化合物又はその薬学的に許容される塩。

請求項（抜粋）：

式(1)【化1】(式中、R1は水素原子又はメチル基を表し、 R2は水素原子又は水酸基の保護基を表し、R3は水素原子又はカルボキシル基の保護基を表し、R4は、水素原子又はアミノ基の保護基を表し、R50は水素原子、アミノ基の保護基又は置換されていてもよい以下の基[ホルムイミドイル基、アセトイミドイル基、アミジノ基、低級アルカノイル基、低級アルコキシカルボニル基、低級アルキル基、低級アルケニル基若しくはアラルキル基]を表し、nは0乃至4の整数を表す)で表される化合物又はその薬学的に許容される塩。

IPC (3件)：

C07D477/00 ,  A61K 31/407 ,  A61P 31/04

FI (3件)：

A61K 31/407 ,  A61P 31/04 ,  C07D487/04 134

Fターム (15件)：

4C050KA17 ,  4C050KA18 ,  4C050KB05 ,  4C050KB12 ,  4C050KB13 ,  4C050KB16 ,  4C050KC05 ,  4C086AA01 ,  4C086AA02 ,  4C086AA03 ,  4C086CB02 ,  4C086MA01 ,  4C086MA04 ,  4C086NA14 ,  4C086ZB35