特許
J-GLOBAL ID:200903003495462280

反射防止膜およびそれを配置した表示装置

発明者:
出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平9-272550
公開番号(公開出願番号):特開平11-106704
出願日: 1997年10月06日
公開日(公表日): 1999年04月20日
要約:
【要約】【課題】広範な波長領域において一様に低い反射率(反射率1%以下)を示し、同時に膜強度、耐熱性に優れた反射防止膜を提供する。【解決手段】(a) 一般式R1Si(OR2)3(式中、R1 は炭素数1〜8の有機基、R2は炭素原子数1〜5のアルキル基または炭素数1〜4のアシル基を示す)で表されるオルガノシランの加水分解物および/またはその部分縮合物をオルガノシラン換算で100重量部、(b) 一般式R12Si(OR2)2(式中、R1 およびR2 は前記に同じ)で表されるジオルガノシランの加水分解物および/またはその部分縮合物をジオルガノシラン換算で0〜150重量部、(c) 末端あるいは側鎖に加水分解性基および/または水酸基と結合したケイ素原子を有するシリル基を重合体中に少なくとも1個有するシリル基含有ビニル系樹脂2〜300重量部からなる組成物であって、R1 の少くとも1種またはシリル基含有ビニル樹脂の少くとも1種がフッ素原子を含む組成物より形成された低屈折率層(1) とそれに隣接して屈折率が1.7以上である高屈折率層(2) からなる反射防止膜。
請求項(抜粋):
下記(a) 、(b) 、(c) もしくは(a) 、(c) の加水分解物および/またはその部分縮合物から少くとも構成される組成物より形成された低屈折率層(1) を有する反射防止膜であって、(a) 、(b) 、(c) 組成物もしくは(a) 、(c) 組成物は(a) 、(b) 、(c) の少なくとも1種にフッ素原子を有し、フッ素原子は一般式中のR1 またはシリル基含有ビニル系樹脂の繰返し単位に含む事を特徴とする反射防止膜。(a) 一般式R1Si(OR2)3(式中、R1 は炭素数1〜10の有機基、R2 は炭素数1〜5のアルキル基または炭素数1〜4のアシル基を表す)で表されるオルガノシラン。(b) 一般式R12Si(OR2)2 (式中、R1 、R2 は前記(a) で定義された置換基と同じ置換基を表わすが、(a) と同じ置換基でなくてもよい)で表されるオルガノシランを(a) に対し、0〜150重量%。(c) 末端あるいは側鎖に加水分解性基および/または水酸基と結合したケイ素原子を有するシリル基を重合体中に少くとも1個有するシリル基含有ビニルポリマー樹脂を(a) に対し、2〜300重量%。
IPC (7件):
C09D183/08 ,  B32B 27/00 101 ,  C09D143/04 ,  G02B 1/11 ,  G09F 9/00 318 ,  H01J 29/88 ,  B05D 7/24 302
FI (7件):
C09D183/08 ,  B32B 27/00 101 ,  C09D143/04 ,  G09F 9/00 318 A ,  H01J 29/88 ,  B05D 7/24 302 Y ,  G02B 1/10 A
引用特許:
審査官引用 (4件)
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