特許

J-GLOBAL ID：200903003496531900

パターンを形成する方法

発明者： 扇谷 聡 ,  谷崎 洋子
出願人/特許権者： 旭化成工業株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-165414
公開番号（公開出願番号）：特開平7-020639
出願日： 1993年07月05日
公開日（公表日）： 1995年01月24日
要約：

【要約】【構成】 感光性ポリイミド前駆体を含む感光性組成物から所定のパターンを形成する方法において、10容量パーセント以上の下記式〔II〕で示される常温で液体の化合物を含むリンス液を使用する事を特徴とするパターン形成方法。【化1】【効果】 光架橋性重合体を含む感光性組成物から所定のパターンを形成する方法において、現像後バイアホール底部に薄膜の残らない、リンスショックによるスカムの無い、露光部にダメージの無い良好なパターンを得ることができる。

請求項（抜粋）：

下記式〔I〕で示される繰り返し単位を有する光架橋性重合体を含む感光性組成物から所定のパターンを形成する方法において、10容量パーセント以上の下記式〔II〕で示される常温で液体の化合物を含むリンス液を使用することを特徴とするパターン形成方法。【化1】【化2】

IPC (7件)：

G03F 7/32 ,  C09D179/08 PLX ,  G03F 7/027 514 ,  G03F 7/038 501 ,  G03F 7/038 504 ,  H01L 21/027 ,  H05K 3/06