特許
J-GLOBAL ID：200903003497200045

保護層の形成方法及び光情報媒体の製造方法

発明者：
米山 健司

米山 健司 について

, 
田中 和志

田中 和志 について


出願人/特許権者：
TDK株式会社

TDK株式会社 について


代理人 (1件)： 岡田 正広
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-393480
公開番号（公開出願番号）：特開2005-152751
出願日： 2003年11月25日
公開日（公表日）： 2005年06月16日
要約：
【課題】 各種物体表面の防汚性及び潤滑性に優れる保護層ないしはハードコート層の形成方法を提供する。記録及び/又は再生ビーム入射側表面の防汚性及び潤滑性に優れると共に耐擦傷性及び耐摩耗性にも優れる光情報媒体の製造方法を提供する。【解決手段】 保護層を付与すべき対象物体7上に、活性エネルギー線反応性のシリコーン系化合物及び/又はフッ素系化合物(A)と、活性エネルギー線硬化性化合物(B)とを含む保護層用組成物を塗布して未硬化の保護層を形成する塗布工程と、未硬化の保護層に紫外線を照射し、その後、電子線を照射して、硬化した保護層8を形成する硬化工程とを含む、対象物体上に保護層を形成する方法。保護層8を有する光情報媒体が製造される。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
保護層を付与すべき対象物体上に、活性エネルギー線反応性のシリコーン系化合物及び/又はフッ素系化合物(A)と、活性エネルギー線硬化性化合物(B)とを含む保護層用組成物を塗布して未硬化の保護層を形成する塗布工程と、 未硬化の保護層に紫外線を照射し、その後、電子線を照射して、硬化した保護層を形成する硬化工程とを含む、対象物体上に保護層を形成する方法。
IPC (4件)：
B05D7/24 ,  B05D5/00 ,  G11B7/24 ,  G11B7/26
FI (7件)：
B05D7/24 301T ,  B05D5/00 H ,  G11B7/24 534C ,  G11B7/24 534E ,  G11B7/24 534F ,  G11B7/24 535G ,  G11B7/26 531
Fターム (40件)：
4D075BB42Y ,  4D075BB42Z ,  4D075BB46Y ,  4D075BB47Z ,  4D075BB92Z ,  4D075BB94Z ,  4D075CA02 ,  4D075CA09 ,  4D075CA34 ,  4D075CB06 ,  4D075DA08 ,  4D075DB01 ,  4D075DB13 ,  4D075DB14 ,  4D075DB36 ,  4D075DB43 ,  4D075DB48 ,  4D075DC27 ,  4D075EA07 ,  4D075EA21 ,  4D075EB16 ,  4D075EB20 ,  4D075EB22 ,  4D075EB24 ,  4D075EB33 ,  4D075EB35 ,  4D075EB38 ,  4D075EB56 ,  4D075EC01 ,  4D075EC53 ,  4D075EC54 ,  5D029LA05 ,  5D029LA06 ,  5D029LA07 ,  5D029LB07 ,  5D121AA04 ,  5D121EE21 ,  5D121EE23 ,  5D121EE28 ,  5D121GG02
引用特許：
出願人引用 (5件)
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審査官引用 (6件)
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