特許

J-GLOBAL ID：200903003508052329

荷電粒子ビーム露光装置

発明者： 山田 章夫 ,  小林 克彦 ,  山崎 悟 ,  大饗 義久
出願人/特許権者： 富士通株式会社
代理人 (1件)： 井桁 貞一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-279860
公開番号（公開出願番号）：特開平6-132205
出願日： 1992年10月19日
公開日（公表日）： 1994年05月13日
要約：

【要約】【目的】不動点PH を任意の位置に変更した場合でも、試料上における可変パターンの繋ぎ精度が悪化しない荷電粒子ビーム露光装置の実現にある。【構成】荷電粒子ビームを発生するビーム発生源と試料の間に複数の開口を有するマスク(ブロックマスク)を介在させ、該マスクの1つの開口を透過するように前記荷電粒子ビームの偏向量を操作すると共に、所定の可変パターンのサイズデータに応じて該偏向量を変化させ、前記1つの開口の部分形状に相似する可変パターンを前記試料上に形成する荷電粒子ビーム露光装置において、前記マスク上における荷電粒子ビームの照射位置に応じて、前記可変パターンのサイズデータに応じた偏向修正量を補正できるようにしたことを特徴とする。

請求項（抜粋）：

荷電粒子ビームを発生するビーム発生源と試料の間に複数の開口を有するマスク(ブロックマスク)を介在させ、該マスクの1つの開口を透過するように前記荷電粒子ビームの偏向量を操作すると共に、所定の可変形状パターンのパターンサイズデータに従って該偏向量を微小に変化させ、前記1つの開口の部分形状に相似する可変サイズのパターンを前記試料上に形成する荷電粒子ビーム露光装置において、荷電粒子ビームをマスク上の相対的に広い範囲で偏向させ、マスク上のある開口が指定されたときその開口を透過するようにビームを偏向する第2、第3の偏向器を備えると共に、マスク上のビーム照射位置をその開口の近くで相対的に狭い範囲で変化させる他の第1の偏向器を備え、該他の第1の偏向器の偏向データは、可変サイズパターンのサイズデータを入力として所定の演算処理を実行するディジタル補正演算回路の演算後の出力データであり、該ディジタル補正演算回路の演算定数のいくつか又はその全てを、マスク上の荷電粒子ビームが照射する開口パターンの位置に応じて、個別に異なる値に設定することを特徴とする荷電粒子ビーム露光装置。

IPC (2件)：

H01L 21/027 ,  G21K 5/04