特許
J-GLOBAL ID：200903003512046813
熱処理装置および熱処理方法
発明者：
,
,
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
木村 満
公報種別：再公表公報
出願番号（国際出願番号）：JP2001008555
公開番号（公開出願番号）：WO2002-027772
出願日： 2001年09月28日
公開日（公表日）： 2002年04月04日
要約：
ウェハWが載置され、内部にヒータ22を備えるヒータ板21を、内部に冷媒室を備える冷却ブロック16上に載置する。冷却ブロック16には、これを貫通するガス導入管33が設けられている。ガス導入管33は、ヒータ板21と冷却ブロック16との間隙41に接続され、熱伝導ガスとしてのHeガスを間隙41に供給可能となっている。また、間隙41には、ガス吸引管34が接続され、Heガスを吸引可能となっている。
請求項（抜粋）：
チャンバと、
前記チャンバ内に設けられ、一面に被処理体が載置されるとともに、内部にヒータを備え、載置された前記被処理体を加熱可能なヒータ板と、
前記ヒータ板の他面と接するように前記ヒータ板を載置するとともに、内部に冷却機構を備え、前記ヒータ板を冷却可能な冷却ブロックと、
を備える熱処理装置。
IPC (2件)：
FI (2件)：
前のページに戻る
