基板処理装置

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：吉田茂明 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-229980
公開番号（公開出願番号）：特開平8-097121
出願日： 1994年09月26日
公開日（公表日）： 1996年04月12日
要約：

【要約】【目的】ガラスのような絶縁体からなる基板に対しても正確にその帯電を中和して静電気の発生を防止することが可能な基板処理装置を提供すること。【構成】イオナイザ81は、リフトピン6上に保持された基板10の上方から基板10の上面に向けてイオン化された気体を吹き付ける。表面電位計87は、リフトピン6に保持された基板10の上方に配置され、基板10の上面における帯電量を計測する。イオナイザコントロール回路89は、計測された帯電量に応じてイオナイザ81を制御する。この際、表面電位計87が、基板10の上方から基板10の上面における帯電量を正確に計測するので、イオナイザコントロール回路89によるイオナイザ81の制御が正確なものとなり、基板10上面が比較的高い絶縁性を有する場合にも、基板10上面の帯電を正確に中和することができる。

請求項（抜粋）：

基板に所定の処理を行う基板処理装置において、基板をほぼ水平に保持する基板保持手段と、基板保持手段に保持された基板の上方から基板の上面に向けてイオン化された気体を吹き付けるイオナイザと、基板保持手段に保持された基板の上方に配置され、基板の上面における帯電量を計測する計測手段と、計測手段で計測された帯電量に応じてイオナイザを制御する制御手段と、を有することを特徴とする基板処理装置。

IPC (3件)：

H01L 21/027 , G02F 1/1333 500 , G03F 1/08

引用特許：

審査官引用 (5件)

特開平3-205816
特開平2-148827
イオナイザによる帯電物品の除電制御法
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-024276 出願人：高砂熱学工業株式会社

全件表示

前のページに戻る