特許

J-GLOBAL ID：200903003552784302

蛍光膜形成方法

発明者： 中村 祐三 ,  藤井 憲太郎 ,  谷口 忠壮
出願人/特許権者： 日本写真印刷株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-296394
公開番号（公開出願番号）：特開平5-109358
出願日： 1991年10月15日
公開日（公表日）： 1993年04月30日
要約：

【要約】【目的】 薄板状基体表面に蛍光膜を良好に形成する。【構成】 ポリエチレンテレフタレートフィルムよりなる基材フィルム1上に、剥離層2を形成し、その上にZnO:Znからなる蛍光体インキ層3をコーティングし、更にその上にアクリル樹脂からなる粘着剤層4をコーティングして得た転写シート10の粘着剤層4側を、約3mmの深さの溝部を有する厚さ1mmのガラス製の基体5上に接着させ、基材フィルム1のみを剥して蛍光体インキ層3を基板5上に転写形成する。つぎに、蛍光体インキ層3を粘着により転写形成した基板5を、450°Cの温度で30分焼成して、蛍光体粉末のパターンを基体5上に形成する。

請求項（抜粋）：

基材フィルム上に剥離層、蛍光体インキ層、粘着剤層が順次積層された蛍光膜形成用転写シートの粘着剤層を基体上に接着させ、基材フィルムを剥離し、次いで焼成し、基体上に蛍光膜を形成することを特徴とする蛍光膜形成方法。

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 特開平3-222236
  
• 特開平2-209487
  
• 特開平4-357026
  
• 特開昭54-110780