tert-ブトキシカルボニル基で部分エステル化されたp-ヒドロキシスチレン-m-ヒドロキシスチレンブロック共重合体及びその製造方法

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：小島隆司
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-225173
公開番号（公開出願番号）：特開平6-049137
出願日： 1992年07月31日
公開日（公表日）： 1994年02月22日
要約：

【要約】【目的】アルカリで容易に現像することができると共に、単分散性で高現像性及び高解像度を有し、機能性高分子としてレジスト材料等の用途に好適なポリマーを提供する。【構成】重量平均分子量(Mw)/数平均分子量(Mn)が1.01〜1.5の単分散性のp-ヒドロキシスチレンとm-ヒドロキシスチレンとのブロック共重合体中のポリ(p-ヒドロキシスチレン)部及びポリ(m-ヒドロキシスチレン)部の水酸基を部分的にtert-ブトキシカルボニル化して、下記構造式(1),(2),(3)及び(4)で示される繰り返し単位を有し、かつ分子量分布が重量平均分子量(Mw)/数平均分子量(Mn)=1.01〜1.5であるポリ(p-ヒドロキシスチレン)部及びポリ(m-ヒドロキシスチレン)部の水酸基がtert-ブトキシカルボニル基で部分エステル化されたp-ヒドロキシスチレン-m-ヒドロキシスチレンブロック共重合体を得る。【化1】

請求項（抜粋）：

下記構造式(1),(2),(3)及び(4)で示される繰り返し単位を有し、かつ分子量分布が重量平均分子量(Mw)/数平均分子量(Mn)=1.01〜1.5であることを特徴とするポリ(p-ヒドロキシスチレン)部及びポリ(m-ヒドロキシスチレン)部の水酸基がtert-ブトキシカルボニル基で部分エステル化されたp-ヒドロキシスチレン-m-ヒドロキシスチレンブロック共重合体。【化1】

IPC (2件)：

C08F212/14 MJY , C08F 8/14 MGN

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