特許
J-GLOBAL ID:200903003564099176

排ガス浄化方法及び排ガス浄化装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 大川 宏
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-119812
公開番号(公開出願番号):特開2001-286732
出願日: 1999年04月27日
公開日(公表日): 2001年10月16日
要約:
【要約】【課題】HC吸着材と酸化・還元触媒とを用い、HC吸着材から放出されるHCを効率よく利用して、排ガス中のHC、CO及びNOx の浄化率を一層向上させる。【解決手段】HC吸着材と、酸素吸蔵放出材にRh及びPdの少なくとも一方を担持してなる酸化・還元触媒とを、直列にあるいは二層構造に組み合わせた。酸素吸蔵放出材にRh及びPdの少なくとも一方を担持してなる酸化・還元触媒は、HCが存在しない場合に触媒活性がきわめて向上することが明らかとなった。したがってHC吸着材に排ガス中のHCを吸着させることにより、酸化・還元触媒の浄化活性が著しく向上する。
請求項(抜粋):
排ガス中の炭化水素濃度を低下させて低HC排ガスとし、該低HC排ガスを酸素吸蔵放出材にロジウム及びパラジウムの少なくとも1種を担持した酸化・還元触媒と接触させることを特徴とする排ガス浄化方法。
IPC (5件):
B01D 53/94 ,  B01D 53/86 ZAB ,  B01J 23/63 ,  F01N 3/10 ,  F01N 3/24
FI (7件):
B01D 53/36 104 A ,  F01N 3/10 ,  F01N 3/24 E ,  B01D 53/36 ZAB ,  B01D 53/36 102 B ,  B01D 53/36 102 H ,  B01J 23/56 301 A
Fターム (84件):
3G091AA02 ,  3G091AA17 ,  3G091AB02 ,  3G091AB03 ,  3G091AB04 ,  3G091AB05 ,  3G091AB10 ,  3G091BA03 ,  3G091BA14 ,  3G091BA15 ,  3G091BA19 ,  3G091BA39 ,  3G091FA02 ,  3G091FA04 ,  3G091FB02 ,  3G091FB10 ,  3G091FB11 ,  3G091FB12 ,  3G091FC07 ,  3G091GA06 ,  3G091GA16 ,  3G091GB01W ,  3G091GB01X ,  3G091GB04W ,  3G091GB05W ,  3G091GB05Y ,  3G091GB06W ,  3G091GB06Y ,  3G091GB07W ,  3G091GB09Y ,  3G091GB10W ,  3G091GB10X ,  3G091GB16W ,  3G091GB16X ,  3G091GB17X ,  3G091HA18 ,  3G091HA20 ,  4D048AA06 ,  4D048AA13 ,  4D048AA18 ,  4D048AB01 ,  4D048AB02 ,  4D048BA03X ,  4D048BA08X ,  4D048BA11X ,  4D048BA19X ,  4D048BA30X ,  4D048BA31X ,  4D048BA33X ,  4D048BA41X ,  4D048BA42X ,  4D048BB02 ,  4D048CC32 ,  4D048CC38 ,  4D048CC46 ,  4D048DA01 ,  4D048DA08 ,  4D048EA04 ,  4G069AA03 ,  4G069BA01A ,  4G069BA01B ,  4G069BA05A ,  4G069BA05B ,  4G069BA07A ,  4G069BA07B ,  4G069BC43A ,  4G069BC43B ,  4G069BC71A ,  4G069BC71B ,  4G069BC72A ,  4G069BC72B ,  4G069BC75A ,  4G069BC75B ,  4G069CA03 ,  4G069CA07 ,  4G069CA08 ,  4G069CA09 ,  4G069DA06 ,  4G069EA19 ,  4G069FA02 ,  4G069ZA04B ,  4G069ZA06B ,  4G069ZA11B ,  4G069ZA13B

前のページに戻る