特許
J-GLOBAL ID：200903003601257275
ポジ型レジスト組成物
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
大島 正孝
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-199888
公開番号（公開出願番号）：特開平5-019464
出願日： 1991年07月16日
公開日（公表日）： 1993年01月29日
要約：
【要約】【構成】本発明のポジ型レジスト組成物は、メタクレゾールと2,3-キシレノール、3,4-キシレノール、2,3,5-トリメチルフェノールから選ばれる特定のフェノール類の組み合せからなるノボラック樹脂と、特定のフェノール性化合物のキノンジアジドスルホン酸エステルを配合したことを特徴とする。【効果】本発明の組成物は、感度、耐熱性、解像度およびパターン形状が優れ、特に寸法忠実度、フォーカス許容性が改善されたポジ型レジスト組成物として好適に使用できる。
請求項（抜粋）：
アルカリ可溶性ノボラック樹脂と感放射線性成分を含有してなるポジ型ホトレジスト組成物であって、(A)アルカリ可溶性ノボラック樹脂が(A1)メタクレゾール、2,3-キシレノールおよび3,4-キシレノールをアルデヒド類と重縮合せしめて得られたアルカリ可溶性ノボラック樹脂、ここでメタクレゾール/2,3-キシレノール/3,4-キシレノールのモル比は90〜10/5〜85/5〜60である、あるいは(A2)メタクレゾールと2,3,5-トリメチルフェノール、またはこれらと2,3-キシレノールをアルデヒド類と重縮合せしめて得られたアルカリ可溶性ノボラック樹脂、ここでメタクレゾール/2,3,5-トリメチルフェノール/2,3-キシレノールのモル比は95〜10/5〜60/0〜85である、のいずれかであり、そして(B)感放射線性成分が下記式(1)【化1】ここで、R1〜R4は、同一もしくは異なり、置換もしくは非置換のアルキル基、置換もしくは非置換のアリール基または水酸基であり(但し、R1、R2およびR4のうち少なくとも1つは水酸基であるものとする)、R5〜R7は、同一もしくは異なり、水素原子または置換もしくは非置換のアルキル基であり、a、bおよびdは0〜5の整数であり(但し、a、bおよびdの全てが0であることはない)、そしてcは0〜4の整数である、但し、aが2〜5の場合の複数のR1、bが2〜5の場合の複数のR2、cが2〜4の場合の複数のR3およびdが2〜5の場合の複数のR4はそれぞれ同一でも異なっていてもよいものとする、で表わされるフェノール性化合物の1,2-キノンジアジドスルホン酸エステルである、ことを特徴とするポジ型レジスト組成物。
IPC (3件)：
G03F 7/022
, G03F 7/023 511
, H01L 21/027
