特許

J-GLOBAL ID：200903003615596510

有機薄膜形成装置

発明者： 佐々木 浩司 ,  成井 啓修 ,  簗嶋 克典 ,  田中 貞雄 ,  目々澤 聡彦
出願人/特許権者： ソニー株式会社
代理人 (1件)： 船橋 國則
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-219460
公開番号（公開出願番号）：特開2004-059992
出願日： 2002年07月29日
公開日（公表日）： 2004年02月26日
要約：

【課題】有機原料が貯留される原料容器内を効率よく均一に温度制御することが可能な有機薄膜形成装置を提供する。【解決手段】基板Sに成膜処理を行うための処理チャンバ11と、処理チャンバ11に有機原料ガスを供給するため原料ガス供給管21と、原料ガス供給管21に有機原料ガスを供給するための有機原料を貯留した原料容器31とを備えた有機薄膜形成装置であって、原料容器31の周囲を覆うように、電磁誘導加熱により原料容器31を加熱するための複数の加熱コイル32が配置されているとともに、各加熱コイル32を介してそれぞれ独立した温度制御を行うための交流電流制御手段34が設けられていることを特徴とする有機薄膜形成装置である。【選択図】 図1

請求項（抜粋）：

基板に成膜処理を行うための処理チャンバと、前記処理チャンバに有機原料ガスを供給するための原料ガス供給管と、前記原料ガス供給管に有機原料ガスを供給するための有機原料を貯留した原料容器とを備えた有機薄膜形成装置であって、 前記原料容器の周囲を覆うように、電磁誘導加熱により当該原料容器を加熱するための複数の加熱コイルが配置されており、前記各加熱コイルを介してそれぞれ独立した温度制御を行うための制御手段が設けられている ことを特徴とする有機薄膜形成装置。

IPC (3件)：

C23C14/12 ,  C23C14/24 ,  H05B33/14

FI (3件)：

C23C14/12 ,  C23C14/24 B ,  H05B33/14 A

Fターム (9件)：

3K007AB18 ,  3K007DB03 ,  3K007FA01 ,  4K029BA62 ,  4K029BC07 ,  4K029CA01 ,  4K029DB06 ,  4K029DB15 ,  4K029DB19