特許

J-GLOBAL ID：200903003629177153

回転式基板処理装置

発明者： 小山 芳弘 ,  溝畑 保▲廣▲ ,  辻 雅夫 ,  久井 章博 ,  児玉 光正 ,  松永 実信 ,  八木 真伸 ,  中村 靖 ,  佐藤 誠也 ,  小林 一平
出願人/特許権者： 大日本スクリーン製造株式会社
代理人 (1件)： 杉谷 勉
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-097265
公開番号（公開出願番号）：特開平5-267148
出願日： 1992年03月23日
公開日（公表日）： 1993年10月15日
要約：

【要約】【目的】 複数個の薬液処理部を備えながらも装置全体を小型化するとともに保守点検や立ち上げおよび調整を手間少なく行うことができるようにする。【構成】 基板Wを回転可能に保持する2個の薬液処理部2,2を設け、その薬液処理部2,2間に、薬液を供給する1個の薬液供給手段3を設け、2個の薬液処理部2,2に対して1個の薬液供給手段3で薬液を供給できるように構成する。

請求項（抜粋）：

基板を回転可能に保持する複数個の薬液処理部と、その薬液処理部に薬液を供給する薬液供給手段とを備えた回転式基板処理装置であって、前記薬液供給手段を、2個以上の薬液処理部にわたって変位可能に設けたことを特徴とする回転式基板処理装置。

IPC (2件)：

H01L 21/027 ,  H01L 21/306

FI (2件)：

H01L 21/30 361 C ,  H01L 21/30 361 L

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 特開平1-127075
  
• 特開平2-132444