特許

J-GLOBAL ID：200903003631391510

キチン誘導体の製造法

発明者： 上面 雅義 ,  坂入 信夫 ,  西 則雄
出願人/特許権者： 日立化成工業株式会社
代理人 (1件)： 若林 邦彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-088397
公開番号（公開出願番号）：特開2000-281703
出願日： 1999年03月30日
公開日（公表日）： 2000年10月10日
要約：

【要約】【課題】 N-脱アセチル化キチンのN-フタロイル化反応等を選択的に効率よく行える製造法を提供するものである。【解決手段】 N-脱アセチル化キチンに、下記一般式(I)で示される酸無水物を反応させて、前記N-脱アセチル化キチン中のアミノ基を下記一般式(II)で示される基とするキチン誘導体の製造法において、前記反応を酸性条件で開始し、途中で塩基性条件に変えて反応を継続することを特徴とするキチン誘導体の製造法及びこの製造法により得られるキチン誘導体を加熱して閉環させ、下記一般式(II)で示される基を下記一般式(III)で示される基とするキチン誘導体の製造法。【化1】(式中、Xは、複数ある場合は各々独立に、水素原子を除く一価の基を示し、nは1〜10の整数である)

請求項（抜粋）：

N-脱アセチル化キチンに、一般式(I)【化1】(式中、Xは、複数ある場合は各々独立に、水素原子を除く一価の基を示し、nは1〜10の整数である)で示される酸無水物を反応させて、前記N-脱アセチル化キチン中のアミノ基を一般式(II)【化2】(式中、Xは、複数ある場合は各々独立に、水素原子を除く一価の基を示し、nは1〜10の整数である)で示される基とするキチン誘導体の製造法において、前記反応を酸性条件で開始し、途中で塩基性条件に変えて反応を継続することを特徴とするキチン誘導体の製造法。

Fターム (8件)：

4C090AA05 ,  4C090BA46 ,  4C090BB65 ,  4C090BB77 ,  4C090BB98 ,  4C090CA32 ,  4C090CA35 ,  4C090DA10

引用特許：

出願人引用 (2件)

• N-カルボキシアシルキトサン及びその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-307892   出願人：片倉チッカリン株式会社, 株式会社大阪合成有機化学研究所
• 特開昭63-220865