特許

J-GLOBAL ID：200903003640402150

洗浄液および洗浄方法

発明者： 斉藤 昭男 ,  太田 勝啓
出願人/特許権者： 株式会社日立製作所
代理人 (1件)： 小川 勝男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-291240
公開番号（公開出願番号）：特開平5-129264
出願日： 1991年11月07日
公開日（公表日）： 1993年05月25日
要約：

【要約】【目的】半導体ウエハ等の基板の表面に形成される集積回路の高密度化に伴い、より微小な異物や微量の汚染膜が歩留まり向上の障害となっている。本発明では異物の再付着や汚染膜の付着を防止する洗浄液の提供を目的とする。【構成】アミノ基を有する物質を添加したフッ酸水溶液を洗浄液として用いることにより、微小異物の再付着や微量な汚染膜の付着を防止できる。【効果】半導体装置、薄膜デバイス、ディスク等のエレクトロニクス部品の歩留まりを高めることができる。

請求項（抜粋）：

フッ酸水溶液にアミノ基を有する物質を添加することを特徴とする洗浄液。

IPC (7件)：

H01L 21/304 341 ,  C09K 13/08 ,  C11D 7/60 ,  G03F 1/08 ,  B08B 17/02 ,  C11D 7:08 ,  C11D 7:32