特許

J-GLOBAL ID：200903003641626052

薄膜ヘッドとその製造方法

発明者： 中山 正俊 ,  津吉 淳弘 ,  松場 康浩 ,  池尾 泉
出願人/特許権者： ティーディーケイ株式会社
代理人 (1件)： 石井 陽一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-111969
公開番号（公開出願番号）：特開平10-289419
出願日： 1997年04月14日
公開日（公表日）： 1998年10月27日
要約：

【要約】【課題】 薄膜ヘッドの構成部材に対する密着力が強く、耐久性に優れ、さらなる薄膜化が可能であり、製造工程が少なく、しかも安価な薄膜ヘッドとその製造方法を提供する【解決手段】 少なくとも記録媒体との対向表面に保護膜を有し、この保護膜が、Si,CおよびHをそれぞれ、Siを3〜9 at%、Cを61〜81at%、Hを16〜30at%、含有する薄膜ヘッドとした。

請求項（抜粋）：

少なくとも記録媒体との対向表面に保護膜を有し、この保護膜が、Si,CおよびHをそれぞれ、Siを、 3〜9 at%、Cを、61〜81at%、Hを、16〜30at%、含有する薄膜ヘッド。