特許
J-GLOBAL ID：200903003662981790

基板処理装置及び方法

発明者：
朴 貴 秀

朴 貴 秀 について

, 
安 孝 俊

安 孝 俊 について


出願人/特許権者：
セメス株式会社

セメス株式会社 について


代理人 (1件)： 特許業務法人共生国際特許事務所
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-263731
公開番号（公開出願番号）：特開2009-094523
出願日： 2008年10月10日
公開日（公表日）： 2009年04月30日
要約：
【課題】基板処理装置及び方法を提供する。【解決手段】本発明は、処理液が満たされる処理槽に基板を浸漬して洗浄する装置及び方法に関する。本発明による基板処理装置は、各々の処理槽に具備され工程時に基板を支持するボートを有し、前記ボートは、工程時に基板の互いに異なる部分と接触して基板を支持する。本発明は、各々の処理槽のボートが支持する基板の接触部分を互いに相違するようにして、ある一つの処理槽で洗浄されなかった基板の接触部分が他の処理槽で洗浄されるようにすることによって、基板を支持する支持部材によって基板の洗浄効率が低下することを防止する。【選択図】図3
請求項１：
基板を処理する装置であって、 内部に処理液で満たされる空間を有するハウジングと、前記基板を支持する支持部材とを含み、 工程時に前記ハウジング内部で前記基板を洗浄する処理槽と、 複数の前記処理槽間に基板を移送する移送部と、を有し、 前記支持部材は複数の支持部を含み、 前記複数の処理槽が少なくとも第1処理槽と第2処理槽を含む場合には、 第1処理槽での工程時に、前記基板が、第1ハウジング内部で第1支持部材の複数の支持部に接触する部分と、第2処理槽での工程時に、 第2ハウジング内部で第2支持部材の複数の支持部に接触する部分とは互いに相違するように形成されている、ことを特徴とする基板処理装置。
IPC (2件)：
H01L 21/304 ,  H01L 21/683
FI (4件)：
H01L21/304 642B ,  H01L21/304 648D ,  H01L21/304 648H ,  H01L21/68 N
Fターム (20件)：
5F031CA02 ,  5F031DA03 ,  5F031FA03 ,  5F031FA09 ,  5F031GA02 ,  5F031GA48 ,  5F031GA49 ,  5F031HA72 ,  5F031MA23 ,  5F157AB03 ,  5F157AB13 ,  5F157AB34 ,  5F157AB44 ,  5F157AB51 ,  5F157AC01 ,  5F157AC43 ,  5F157BB02 ,  5F157BB13 ,  5F157CF93 ,  5F157DB02
引用特許：
審査官引用 (2件)
  • 基板洗浄装置及び基板洗浄治具
    公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-391075   出願人：日立プラント建設株式会社
  • 洗浄装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-122597   出願人：東京エレクトロン株式会社, 東京エレクトロン九州株式会社

前のページに戻る

TOP

BOTTOM