特許

J-GLOBAL ID：200903003667357939

成膜装置および成膜方法

発明者： 紙山 功
出願人/特許権者： ソニー株式会社
代理人 (1件)： 船橋 國則
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-090417
公開番号（公開出願番号）：特開2003-286563
出願日： 2002年03月28日
公開日（公表日）： 2003年10月10日
要約：

【要約】【課題】 多元共蒸着において、材料の混合比率を正確に効率良く制御することが可能な成膜装置および成膜方法を提供することを目的とする。【解決手段】 基板W上に蒸着膜を成膜するための成膜装置1であって、開口面積を自在に調整可能な複数の開口部5a,5bを備えた遮蔽部材5と、遮蔽部材5の一面側において各開口部5a,5bに対向する位置にそれぞれ配置された蒸発源7a,7bと、遮蔽部材5の他面側において、各開口部5a,5bおよび蒸発源7a,7bに対して基板Wを繰り返し相対的に移動させる移動手段9とを備えている。開口部5a,5bは同一円周上に配置され、移動手段9はこの円周に沿って基板Wを相対的に公転させる。

請求項（抜粋）：

基板上に蒸着膜を成膜するための成膜装置であって、開口面積を自在に調整可能な複数の開口部を備えた遮蔽部材と、前記遮蔽部材の一面側において前記各開口部に対向する位置にそれぞれ配置された蒸発源と、前記遮蔽部材の他面側において、前記各開口部および蒸発源に対して前記基板を繰り返し相対的に移動させる移動手段とを備えたことを特徴とする成膜装置。

IPC (3件)：

C23C 14/24 ,  H05B 33/10 ,  H05B 33/14

FI (4件)：

C23C 14/24 G ,  C23C 14/24 J ,  H05B 33/10 ,  H05B 33/14 A

Fターム (13件)：

3K007AB11 ,  3K007AB18 ,  3K007DB03 ,  3K007FA01 ,  4K029BA62 ,  4K029CA01 ,  4K029DA12 ,  4K029DB14 ,  4K029DB15 ,  4K029EA05 ,  4K029HA03 ,  4K029JA02 ,  4K029JA08