特許

J-GLOBAL ID：200903003668757388

フェイスマスク

発明者： 大橋 義隆
出願人/特許権者： 大橋 義隆
代理人 (1件)： 今井 彰
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-308026
公開番号（公開出願番号）：特開2000-136112
出願日： 1998年10月29日
公開日（公表日）： 2000年05月16日
要約：

【要約】【課題】 経済的で、殺菌性を備え、さらに敏感肌の人でも安心して利用できるフェイスマスクを提供すること。【解決手段】 顔面にフィットするように目の部分20、口の部分30、および鼻の部分40がカットされたフェイスマスク10を、光触媒となる酸化チタンに加えて、電極となる銀と、吸着剤となるヒドロキシアパタイトが固着された不織布により形成する。このフェイスマスク10は、光触媒による殺菌効果によって、ニキビ、吹き出もの等に効力があるものを実現できるので、薬害の心配なく安心して使用できる。また、本例のフェイスマスク10の殺菌効果は、光触媒作用であり持続されるので、水洗いして繰返し使用でき、経済的である。

請求項（抜粋）：

顔面にフィットするように目、鼻および口の部分がカットされたフェイスマスクであって、光触媒が固着された不織布により形成されていることを特徴とするフェイスマスク。

IPC (4件)：

A61K 7/00 ,  A61K 7/48 ,  B01J 35/02 ,  D04H 1/20

FI (4件)：

A61K 7/00 U ,  A61K 7/48 ,  B01J 35/02 J ,  D04H 1/20

Fターム (30件)：

4C083AB191 ,  4C083AB192 ,  4C083AB241 ,  4C083AB242 ,  4C083AB291 ,  4C083AB292 ,  4C083AD072 ,  4C083AD092 ,  4C083AD262 ,  4C083BB48 ,  4C083BB60 ,  4C083CC02 ,  4C083CC07 ,  4C083DD12 ,  4C083EE06 ,  4C083EE10 ,  4C083EE12 ,  4C083EE14 ,  4G069AA03 ,  4G069BA04A ,  4G069BA04B ,  4G069BA48A ,  4G069CA01 ,  4G069CA11 ,  4G069EA10 ,  4L047AA12 ,  4L047AA21 ,  4L047AA29 ,  4L047CB10 ,  4L047CC03