特許

J-GLOBAL ID：200903003672246770

シルセスキオキサンラダーポリマー及びその製造方法

発明者： 木村 良晴 ,  山根 秀樹 ,  北原 静夫
出願人/特許権者： 日本ゼオン株式会社
代理人 (1件)： 西川 繁明
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-143338
公開番号（公開出願番号）：特開平5-310942
出願日： 1992年05月08日
公開日（公表日）： 1993年11月22日
要約：

【要約】【目的】 主鎖を構成するSi原子にシリル基が結合した新規なシルセスキオキサンラダーポリマー、及びその製造方法を提供すること。【構成】 構造式〔I〕(式中、R1は、同じでも異なってもよく、有機基を表す。)で表される繰り返し単位を有し、数平均分子量が1,000〜500,000であるシルセスキオキサンラダーポリマー、及び 一般式〔II〕(R1)3-Si-Si-(X)3 〔II〕(式中、R1は有機基を表し、Xは加水分解性基を表す。)で表されるジシラン化合物を加水分解縮重合させることを特徴とするシルセスキオキサンラダーポリマーの製造方法。

請求項（抜粋）：

構造式〔I〕【化1】(式中、R1は、同じでも異なってもよく、有機基を表す。)で表される繰り返し単位を有し、数平均分子量が1,000〜500,000であるシルセスキオキサンラダーポリマー。

IPC (6件)：

C08G 77/04 NUA ,  C08G 77/48 NUM ,  G02B 1/10 ,  G03F 7/075 511 ,  H01L 21/027 ,  H05K 3/06