特許
J-GLOBAL ID：200903003672781773
レジスト組成物
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (5件)：
小栗 昌平
, 本多 弘徳
, 市川 利光
, 高松 猛
, 栗宇 百合子
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-167145
公開番号（公開出願番号）：特開2004-012874
出願日： 2002年06月07日
公開日（公表日）： 2004年01月15日
要約：
【課題】レジスト膜に露光、現像を行って画像を形成させる際に、本来溶解除去されなければならない領域のレジスト膜を確実に溶解除去することができとともにラインエッジラフネスが改善されたレジスト組成物を提供する。【解決手段】(A)活性光線又は放射線の照射により、酸を発生する特定の化合物を含有するレジスト組成物。【選択図】 なし
請求項（抜粋）：
(A)下記一般式(IA)〜(IVA)のいずれかで表される、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有することを特徴とするレジスト組成物。
IPC (2件)：
FI (2件)：
G03F7/004 503A
, G03F7/039 601
2H025AA03
, 2H025AA04
, 2H025AB16
, 2H025AC03
, 2H025AC08
, 2H025AD03
, 2H025BE00
, 2H025BE10
, 2H025BG00
, 2H025CB14
, 2H025CB16
, 2H025FA17
