特許

J-GLOBAL ID：200903003680725394

透過型電子顕微鏡の試料作製方法及び試料作製装置

発明者： 江藤 竜二
出願人/特許権者： 松下電器産業株式会社
代理人 (1件)： 森本 義弘
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-064654
公開番号（公開出願番号）：特開平8-261897
出願日： 1995年03月24日
公開日（公表日）： 1996年10月11日
要約：

【要約】【目的】 集束イオンビーム加工装置を用いた透過電子顕微鏡用試料作製の簡略化と加工時間短縮ができる試料作成方法を提供することを目的とする。【構成】 集束イオンビーム加工装置で観察箇所3の極周辺部を囲む溝6を形成し、前記溝6と観察箇所3の表面に金属膜を成膜し、前記金属膜をマスクとしてドライエッチング処理することによりマスク部分以外の試料表面を除去した後、Ga+ イオンビームにより観察箇所極周辺部のデバイスパターンを除去する試料作製方法とする。

請求項（抜粋）：

透過型電子顕微鏡で断面観察する試料における前記断面観察箇所を囲む溝を集束イオンビーム加工装置を用いて形成し、前記溝を含む観察箇所表面に金属膜を選択的にCVD成膜した後に、前記金属膜をマスクとして試料全面をドライエッチング処理し、断面観察する箇所の極周辺部のみを選択的に残存させた後に、集束イオンビーム加工装置で断面観察する箇所の極周辺部を除去加工することを特徴とする透過型電子顕微鏡の試料作製方法。

IPC (3件)：

G01N 1/32 ,  G01N 1/28 ,  H01J 37/20

FI (3件)：

G01N 1/32 B ,  H01J 37/20 F ,  G01N 1/28 F