特許

J-GLOBAL ID：200903003685048960

耐食性のすぐれた永久磁石の製造方法

発明者： 浜田 隆樹 ,  早川 徹治
出願人/特許権者： 住友特殊金属株式会社
代理人 (1件)： 押田 良久
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-107538
公開番号（公開出願番号）：特開平7-074043
出願日： 1984年12月24日
公開日（公表日）： 1995年03月17日
要約：

【要約】【目的】 腐蝕性薬品等を使用、残留させる湿式めっき処理に代えて、密着性、防蝕性にすぐれた耐食性薄膜を、磁石材料表面に均一厚みで設けることが可能なFe-B-R系永久磁石の製造方法の提供。【構成】 主相が正方晶相からなるFe-B-R系永久磁石材料表面に生成する酸化物を抑制するため、真空蒸着法、イオンスパッタリング法、イオンプレーティング法、イオン蒸着薄膜形成法(IVD)、あるいはプラズマ蒸着薄膜形成法(CVD)等の気相めっき処理にて該磁石材料表面に膜厚が均一で強固かつ安定な耐食性気相めっき層を形成するものであり、この金属またはその合金やセラミックスの気相めっき層を施すことによって、磁石体表面の酸化が抑制され、磁気特性が劣化することなく、また、湿式めっき処理のごとく腐蝕性の薬品等を使用、残留させることがないため、磁気特性が長期にわたって安定する。

請求項（抜粋）：

R(但しRはYを含む希土類元素のうち少なくとも1種)8原子%〜30原子%、B 2原子%〜28原子%、Fe 42原子%〜90原子%を主成分とし主相が正方晶相からなる永久磁石体表面に、気相めっき処理にて耐食性気相めっき層を被着したことを特徴する耐食性のすぐれた永久磁石の製造方法。

IPC (4件)：

H01F 41/02 ,  C23C 14/18 ,  H01F 1/053 ,  H01F 1/08

FI (2件)：

H01F 1/04 H ,  H01F 1/08 B

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 特開昭59-046008
  
• 特開昭49-086896