特許
J-GLOBAL ID：200903003691890745
遠赤外線放射セラミックスの製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
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代理人 (1件)：
後呂 和男 (外1名)
公報種別：再公表公報
出願番号（国際出願番号）：JP2000004119
公開番号（公開出願番号）：WO2001-014278
出願日： 2000年06月22日
公開日（公表日）： 2001年03月01日
要約：
【要約】まず、少なくともフライアッシュ又は火山灰、粘土及びバインダー樹脂粉末を含む原料混合物を混練用液体と共に混練する。この場合、好ましくは原料混合物に炭素粉末を添加し、バインダー樹脂としてはフェノール樹脂又はケトン樹脂を使用する。所定形状に形成した後に750°C以上の非酸化性雰囲気で焼成して焼成後の炭素量が5〜20重量%となるようにする。なお、750°C以上に昇温させる前に300°C前後で30分間以上維持することが好ましく、非酸化性雰囲気とするには、例えば窒素ガスを炉内に供給する。
請求項（抜粋）：
少なくともフライアッシュ又は火山灰、粘土及びバインダー樹脂粉末を含む原料混合物を混練用液体と共に混練し、所定形状に形成した後に750°C以上の非酸化性雰囲気で焼成して焼成後の炭素量が5〜20重量%となるようにしたことを特徴とする遠赤外線放射セラミックスの製造方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
C04B 35/00 V
, C04B 35/16 Z
