特許
J-GLOBAL ID：200903003698967441
磁気記録媒体及びその製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
大澤 斌 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-200689
公開番号（公開出願番号）：特開2003-016635
出願日： 2001年07月02日
公開日（公表日）： 2003年01月17日
要約：
【要約】【課題】 従来の磁気記録媒体の製造方法では、同じ範疇の非磁性支持体を使用して磁気記録媒体を製膜しても変形レベルが大きく異なることがあり、歩留まりの向上を阻害していた。本発明は、所定の原料物性の非磁性支持体を使用することにより、従来より変形レベルが低く、かつ予測可能な変形レベルの磁気記録媒体を提供する。【解決手段】 非磁性支持体に少なくとも磁性層を被覆した積層体を製膜して磁気記録媒体を製造する際に、製膜時の熱収縮率が1%以下である非磁性支持体を使用する。熱収縮率が1%以下の非磁性支持体を使用する磁気記録媒体は変形レベルが低く修復可能であるのに対し、熱収縮率が1%を超える非磁性支持体で製造した磁気記録媒体は変形レベルが著しく大きく、使用不能になる。
請求項（抜粋）：
非磁性支持体に少なくとも磁性層を被覆して製造される磁気記録媒体において、製膜時の前記非磁性支持体の熱収縮率が1%以下であることを特徴とする磁気記録媒体。
IPC (2件)：
FI (2件)：
Fターム (6件)：
5D006CB07
, 5D006EA03
, 5D112AA02
, 5D112BA01
, 5D112FA04
, 5D112FB26
