特許
J-GLOBAL ID:200903003713016866
処理装置及び処理方法
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
井桁 貞一
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平6-195769
公開番号(公開出願番号):特開平8-060384
出願日: 1994年08月19日
公開日(公表日): 1996年03月05日
要約:
【要約】【目的】 少ない液量でディップ処理の精度を維持する。【構成】 1)処理液を導入して被処理基板を浸漬する処理カップと, 該処理カップ内で該被処理基板を保持し且つ上下動するチャックと, 該処理液を該処理カップより排出する手段とを有する処理装置,2)処理液を満たした処理カップ内に被処理面を上にしたまま被処理基板を浸漬した後,該被処理基板を該処理液より引き上げ, 該被処理基板上に滞留した処理液で処理を行い, 該処理カップに残った処理液を回収する処理方法。
請求項(抜粋):
処理液を導入して被処理基板を浸漬する処理カップと, 該処理カップ内で該被処理基板を保持し且つ上下動するチャックと, 該処理液を該処理カップより排出する手段とを有することを特徴とする処理装置。
IPC (3件):
C23F 1/08 102
, H01L 21/027
, H01L 21/306
FI (3件):
H01L 21/30 569 C
, H01L 21/30 569 B
, H01L 21/306 J
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