特許

J-GLOBAL ID：200903003713586646

洗浄槽

発明者： 久保 和樹
出願人/特許権者： 株式会社カイジョー
代理人 (1件)： 薬師 稔 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-210478
公開番号（公開出願番号）：特開平10-041266
出願日： 1996年07月23日
公開日（公表日）： 1998年02月13日
要約：

【要約】【課題】 洗浄液の給液量の抑制を図り、洗浄効果を向上させることのできる洗浄槽を提供する。【解決手段】 リンス槽1の底部のパンチング板3から排水された純水の少なくとも一部をフィルタ13でろ過してリンス槽1の給水部5に供給する循環ライン12を備える。こうすれば、複数のシリコンウェーハ16の狭い整列間隔に多量の純水を高速、かつ容易に浸入させて表面処理やウェーハ洗浄効果などを向上させることができる。また、表面処理や洗浄効果の向上に伴い作業時間の短縮が期待できる。また、給水量増加の必要性がないので、純水の使用量削減とランニングコストの上昇抑制が可能になるとともに、コウトダウン、省エネ及び省資源化を図ることができる。

請求項（抜粋）：

処理槽の上部の給水部から下方に洗浄液を供給して処理槽中の被洗浄物を洗浄する洗浄槽において、処理槽の底部のパンチング板から排液された洗浄液の少なくとも一部をフィルタでろ過して処理槽の給水部に供給する循環ラインを設けたことを特徴とする洗浄槽。

IPC (2件)：

H01L 21/304 341 ,  H01L 21/304

FI (2件)：

H01L 21/304 341 T ,  H01L 21/304 341 S