特許

J-GLOBAL ID：200903003720075770

シリカゲル及びその製造方法

発明者： 加藤 寛 ,  池田 篤海 ,  大原 雅和
出願人/特許権者： 株式会社トクヤマ
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-324586
公開番号（公開出願番号）：特開2002-137913
出願日： 2000年10月24日
公開日（公表日）： 2002年05月14日
要約：

【要約】【課題】 シリカ粒子の分散液より分散媒を除去してシリカ粒子の凝集体を形成せしめることによって製造されるシリカゲルにおいて、効率的なガス置換が可能なように細孔分布特性を最適化し、割れや欠けが起こり難い寸法安定性に優れたシリカゲルを提供するものである。【解決手段】 溶融シリカ粒子の凝集体よりなり、水銀ポロシメーターで測定される細孔直径0.004〜10μmの細孔のうち、細孔直径0.05〜0.5μmの細孔の占める割合が、50%以上であることを特徴とするシリカゲルである。

請求項（抜粋）：

溶融シリカ粒子の凝集体よりなり、水銀ポロシメーターで測定される細孔直径0.004〜10μmの細孔のうち、細孔直径0.05〜0.5μmの細孔の占める割合が、50%以上であることを特徴とするシリカゲル。

IPC (3件)：

C01B 33/18 ,  C01B 33/152 ,  C03B 20/00

FI (4件)：

C01B 33/18 Z ,  C01B 33/152 Z ,  C03B 20/00 C ,  C03B 20/00 D

Fターム (23件)：

4G014AH02 ,  4G014AH06 ,  4G014AH08 ,  4G014AH12 ,  4G014AH14 ,  4G014AH21 ,  4G014AH23 ,  4G072AA25 ,  4G072BB01 ,  4G072BB05 ,  4G072CC18 ,  4G072DD04 ,  4G072DD05 ,  4G072DD06 ,  4G072GG01 ,  4G072HH16 ,  4G072HH29 ,  4G072JJ01 ,  4G072QQ01 ,  4G072RR07 ,  4G072TT01 ,  4G072TT09 ,  4G072UU21