特許
J-GLOBAL ID:200903003722876860
半田用フラックス這い上がり防止剤組成物、並びに塗膜形成方法、塗膜が形成されたプリント基板と電子部品
発明者:
,
,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
角田 衛
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2003-182930
公開番号(公開出願番号):特開2004-106056
出願日: 2003年06月26日
公開日(公表日): 2004年04月08日
要約:
【課題】地球環境、作業環境上の問題がない半田用フラックス這い上がり防止剤組成物、並びに塗膜形成方法、塗膜が形成されたプリント基板と電子部品の提供。【解決手段】炭素数4〜14のポリフルオロアルキル基を有する不飽和エステルの単独重合体もしくは共重合体、または、炭素数4〜14のポリフルオロアルキル基を有する不飽和エステルと該エステル以外の重合しうる化合物との共重合体からなる重合体(A)、および、HFC系溶剤またはHFE溶剤からなる溶剤(B)、を含む半田用フラックス這い上がり防止剤組成物をもって塗膜を形成し、当該塗膜が形成されたプリント基板と電子部品を得る。【選択図】なし
請求項(抜粋):
アゾ化合物や過酸化物等の重合開始剤の存在下で溶液重合させて得た下記重合体(A)および下記溶剤(B)を含むことを特徴とする半田用フラックス這い上がり防止剤組成物。
重合体(A):炭素数4〜14のポリフルオロアルキル基を有する不飽和エステルの単独重合体もしくは共重合体、または、炭素数4〜14のポリフルオロアルキル基を有する不飽和エステルと該エステル以外の重合しうる化合物との共重合体。
溶剤(B):ヒドロフルオロカーボン系溶剤、または、ヒドロフルオロエーテル系溶剤。
IPC (4件):
B23K1/00
, B23K35/363
, C08F20/22
, H05K3/34
FI (4件):
B23K1/00 W
, B23K35/363 Z
, C08F20/22
, H05K3/34 503Z
Fターム (17件):
4J100AL08P
, 4J100AL08Q
, 4J100BB18P
, 4J100BC04Q
, 4J100CA01
, 4J100CA04
, 4J100FA03
, 4J100FA19
, 4J100FA30
, 4J100JA46
, 5E319AA01
, 5E319AC01
, 5E319CC22
, 5E319CD23
, 5E319GG03
, 5E319GG05
, 5E319GG15
引用特許: