特許
J-GLOBAL ID：200903003725929239
エンボス調模様捺染システム
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
杉本 巌 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-295302
公開番号（公開出願番号）：特開平7-150487
出願日： 1993年11月25日
公開日（公表日）： 1995年06月13日
要約：
【要約】【目的】 画像処理装置で効率よく作成したエンボス調模様を、捺染処理により布材に再現性かつ生産性よく形成し得るエンボス調模様捺染システムの提供。【構成】 画像処理装置1のCPU2は、画像メモリ9等から入力された模様原図の画像データを基に、これを線画領域,陰影領域及びグラウンド領域に区画してエンボス調の模様原図を作成する。次に、CPU2は、模様原図の画像データの各領域についてそれぞれ特定の階調を指定する。続いて、CPU2は、各領域を構成するすべての画素の階調を、それぞれ指定された特定の階調に設定変更する。これにより、模様原図の画像データは、各領域毎にそれぞれの特定階調に一様に統一されるので、各領域は彫刻型作成装置14が捺染用の適正な孔版を作成することのできる比較的広い面を採りうる。従って、エンボス調に作成された模様原図は、捺染装置15によって布地に忠実かつ工業的にプリントされる。
請求項（抜粋）：
それぞれ複数階調をとりうる多数の画素からなる模様原図の画像データを設定入力する模様原図設定手段と、設定された模様原図の画像データを、光反射領域,陰影領域及び背景領域に区画する画像領域区画手段と、区画された光反射領域,陰影領域及び背景領域に、それぞれ特定の階調を指定する領域階調指定手段と、各領域を構成する全ての画素の階調を、領域毎に指定された特定の階調にそれぞれ変更し設定する領域階調特定手段と、特定の階調に設定された、少なくとも陰影領域と背景領域の画像データに対応する捺染用彫刻型をそれぞれ作成する彫刻型作成手段と、作成された領域毎の捺染用彫刻型を順次用いて布材を捺染する捺染手段とを具備してなることを特徴とするエンボス調模様捺染システム。
IPC (4件)：
D06P 5/00 120
, D06P 5/00
, G06T 5/00
, D06C 23/00
