特許

J-GLOBAL ID：200903003734155378

ホモアリル型アミンの合成方法とキラルジルコニウム触媒

発明者： 小林 修 ,  石谷 暖郎
出願人/特許権者： 科学技術振興事業団
代理人 (1件)： 西澤 利夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-404902
公開番号（公開出願番号）：特開2002-201166
出願日： 2000年12月29日
公開日（公表日）： 2002年07月16日
要約：

【要約】【課題】 高い収率で、良好なジアステレオ選択性並びに良好なエナンチオ選択性で、イミン化合物よりホモアリル型アミンを合成することのできる新しい技術手段を提供する。【解決手段】 (R)-3,3′-ジハロゲノ-1,1′-ビ-2-ナフトールとジルコニウム.アルコキシドにより構成されるキラルジルコニウム触媒の存在下にあって、次式(1)【化1】(式中のR1は、置換基を有していてもよい芳香族炭化水素基または複素環基を示す)で表わされるイミン化合物を、次式(2)【化2】(式中のR2は、脂肪族炭化水素基、またはヒドロキシル基もしくは保護ヒドロキシル基を有する脂肪族炭化水素基を示し、R2は、水素原子または脂肪族炭化水素基を示す)で表わされるアリルスタンナン化合物と反応させて、次式(3)【化3】(式中のR1,R2およびR3は前記のものを示す)で表わされるホモアリル型アミンを合成する。

請求項（抜粋）：

(R)-3,3′-ジハロゲノ-1,1′-ビ-2-ナフトールとジルコニム・アルコキシドにより構成されるキラルジルコニウム触媒の存在下において、次式(1)【化1】(式中のR1は、置換基を有していてもよい芳香族炭化水素基または複素環基を示す)で表わされるイミン化合物を、次式(2)【化2】(式中のR2は、脂肪族炭化水素基またはヒドロキシル基もしくは保護ヒドロキシル基を有する脂肪族炭化水素基を示し、R3は、水素原子または脂肪族炭化水素基を示す)で表わされるアリルスタンナン化合物と反応させて、次式(3)【化3】(式中のR1,R2およびR3は前記のものを示す)で表わされるホモアリル型アミンを合成することを特徴とするホモアリル型アミンの合成方法。

IPC (9件)：

C07C213/02 ,  B01J 31/02 101 ,  C07C215/76 ,  C07C217/84 ,  C07D307/52 ,  C07D317/58 ,  C07B 53/00 ,  C07B 61/00 300 ,  C07M 7:00

FI (9件)：

C07C213/02 ,  B01J 31/02 101 Z ,  C07C215/76 ,  C07C217/84 ,  C07D307/52 ,  C07D317/58 ,  C07B 53/00 B ,  C07B 61/00 300 ,  C07M 7:00

Fターム (40件)：

4C022CA01 ,  4C037HA23 ,  4G069AA06 ,  4G069AA08 ,  4G069BA21A ,  4G069BA21B ,  4G069BC51A ,  4G069BC51B ,  4G069BE06A ,  4G069BE06B ,  4G069BE33A ,  4G069BE33B ,  4G069BE37A ,  4G069BE37B ,  4G069CB25 ,  4G069CB77 ,  4G069FA01 ,  4G069FB04 ,  4G069FC10 ,  4H006AA02 ,  4H006AC52 ,  4H006AC81 ,  4H006BA10 ,  4H006BA28 ,  4H006BA29 ,  4H006BA32 ,  4H006BA45 ,  4H006BA50 ,  4H006BB11 ,  4H006BB14 ,  4H006BB31 ,  4H006BJ50 ,  4H006BM30 ,  4H006BM72 ,  4H006BN10 ,  4H006BN30 ,  4H006BP30 ,  4H006BU46 ,  4H039CA71 ,  4H039CF40

引用特許：

審査官引用 (1件)

• 特許第3432476号