特許

J-GLOBAL ID：200903003739027351

磁気ディスク媒体の製造方法

発明者： 西川 雅夫
出願人/特許権者： 茨城日本電気株式会社
代理人 (1件)： 京本 直樹 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-055875
公開番号（公開出願番号）：特開平5-258299
出願日： 1992年03月16日
公開日（公表日）： 1993年10月08日
要約：

【要約】【目的】 無電解めっき法により磁性膜を形成する磁気ディスク媒体において、磁性膜の面内結晶配向を助長し保磁力の向上をはかる。【構成】 アルミニウム基板1上にNiP合金層2からなる下地層を形成し、次に、NiP酸化膜3もしくは水酸化膜を形成する。更に、無電解めっき法により磁性膜層4を形成する。このとき、NiP酸化膜3は酸処理によりアルミニウム基板1内に点在させて核発生箇所を制限し、この核発生箇所からめっき不活性箇所に向って磁性膜層4の核成長反応を優先させ面内配向性を持たせる。これにより、磁性膜層4は高い保磁力を得ることができる。

請求項（抜粋）：

アルミニウム基板上にNiP合金層からなる下地層を形成し、この下地層上に無電解めっき法により磁性膜層を形成する磁気ディスク媒体において、前記下地層上に酸化膜もしくは水酸化膜を形成し、続いて酸処理により前記酸化膜もしくは前記水酸化膜の一部を除去して点在させた後、この上に前記磁性膜層を形成することを特徴とする磁気ディスク媒体の製造方法。