特許
J-GLOBAL ID:200903003739805753
SRAMセル
発明者:
出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2005-065896
公開番号(公開出願番号):特開2006-252639
出願日: 2005年03月09日
公開日(公表日): 2006年09月21日
要約:
【課題】本発明は、ROM領域を混載するSRAMセルに関する。【解決手段】SRAMセル1は、2個のゲートFETQ11、Q12と、2個のPchFETQ13、Q15と、2個のNchFETQ14、Q16がたすき掛け構造となっており、PchFETQ13がデプレッション型素子で構成されていて、他の全てのFETQ11、Q12、Q14〜Q16がエンハンスメント型素子で構成されている。したがって、FETQ16の出力がLレベル固定となり、最終的に、SRAMセル1は、ゲートFETQ11の電位がLレベルの電位となって、たすき掛けされているもう一方のゲートFETQ12の電位がHレベルの電位が固定されることとなり、ROM化される。【選択図】 図1
請求項1:
2個のゲートFET、2個のPチャネルFET及び2個のNチャネルFETがたすき掛け構成されているSRAMセルにおいて、前記2個のPチャネルFETのうち一方のPチャネルFETを選択的にエンハンスメント型FETからデプレッション型FETに変更して、当該PチャネルFETの選択に応じたデータを格納することを特徴とするSRAMセル。
IPC (2件):
FI (2件):
G11C17/00 304Z
, G11C11/40 A
Fターム (10件):
5B015HH01
, 5B015JJ43
, 5B015KA08
, 5B015KA12
, 5B015NN02
, 5B015QQ03
, 5B125BA12
, 5B125CA08
, 5B125DD10
, 5B125FA10
引用特許:
出願人引用 (1件)
-
圧縮機
公報種別:公開公報
出願番号:特願平9-291064
出願人:株式会社東芝
前のページに戻る