特許
J-GLOBAL ID：200903003742794649
縦型熱処理装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
京本 直樹 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-012707
公開番号（公開出願番号）：特開平5-251373
出願日： 1992年01月28日
公開日（公表日）： 1993年09月28日
要約：
【要約】【目的】反応ガスの流量の多少にかかわる温度制御の不安定性をなくすことによって均熱長をボート長さを包含する長さ以上に制御出来るようにし、また炉芯管とヒーターとの間の遮蔽する部品をなくし反応ガスの置換特性を良好にすることによってウエハの断面方向の加熱均一性を向上させる。【構成】炉芯管7内を加熱するヒーターとは異なるガス加熱ヒーター10により加熱された反応ガスをガス導入管8から炉芯管7内に炉芯管の下方より流入させ、反応ガスは炉芯管内を上方に流れ炉芯管上部の排気管11より排気する構造を有する。
請求項（抜粋）：
半導体ウエハを熱処理する縦型熱処理炉において、炉芯管内を加熱するヒーターとは異なるガス加熱ヒーターにより加熱された反応ガスを炉芯管内に流入させる機構と、反応ガスを炉心管内に下方より流入させて炉芯管内を上方に向けて流し炉芯管上部排気管より排気する機構とを有する事を特徴とする縦型熱処理装置。
IPC (3件)：
H01L 21/22
, H01L 21/205
, H01L 21/223
