位相シフトマスクの製造方法

発明者： , ,
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-332832
公開番号（公開出願番号）：特開平6-180497
出願日： 1992年12月14日
公開日（公表日）： 1994年06月28日
要約：

【要約】【目的】位相シフトマスクがフォトファブリケーションの為の複製用原画として使用される際に、いわゆるフォトマスクとしての機能および位相シフト技術による高解像力の効果をいかんなく発揮することが出来る、という位相シフトマスクを製造工程上あるいは品質上の観点で安定し且つ容易に製造することが可能な製造方法を提供する。【構成】位相シフター層のパターニングに際し、まずドライエッチングにより位相シフター層を所望する厚さの途中まで除去し、次にウェットエッチングにより位相シフター層を所望する厚さまで除去する工程を含むことを特徴とする。

請求項（抜粋）：

透明基板に、遮光部と光透過部とそして位相シフト部とを備えた位相シフトマスクの製造方法において、位相シフター層のパターニングに際し、まずドライエッチングにより位相シフター層を所望する厚さの途中まで除去し、次にウェットエッチングにより位相シフター層を所望する厚さまで除去する工程を含むことを特徴とする位相シフトマスクの製造方法。

IPC (2件)：

G03F 1/08 , H01L 21/027

FI (2件)：

H01L 21/30 301 P , H01L 21/30 311 W

引用特許：

審査官引用 (7件)

特開平4-355758
特開平2-211450
特開平2-211451

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