特許

J-GLOBAL ID：200903003744670092

ごみ除去システムおよび方法

発明者： 岡村 幸治 ,  西島 雄一
出願人/特許権者： 東京エレクトロン株式会社
代理人 (1件)： 高山 宏志
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-331571
公開番号（公開出願番号）：特開2003-133399
出願日： 2001年10月29日
公開日（公表日）： 2003年05月09日
要約：

【要約】【課題】 加熱処理や冷却処理の際のプレート上のごみを自動的に除去することができるごみ除去システムおよび方法を提供すること。【解決手段】 基板を加熱するための加熱プレート51上のごみを除去するごみ除去システムであって、加熱プレート51上に配置され、加熱プレート51上のごみを除去するためのごみ除去部材71と、ごみ除去部材71をプレート外の収納位置70と加熱プレート51上との間で搬送する搬送装置22とを具備する。

請求項（抜粋）：

基板を加熱または冷却するためのプレート上のごみを除去するごみ除去システムであって、前記プレート上に配置され、前記プレート上のごみを除去するためのごみ除去部材と、前記ごみ除去部材を前記プレート外の収納位置と前記プレート上との間で搬送する搬送装置とを具備することを特徴とするごみ除去システム。

IPC (3件)：

H01L 21/68 ,  H01L 21/02 ,  H01L 21/027

FI (3件)：

H01L 21/68 N ,  H01L 21/02 D ,  H01L 21/30 567

Fターム (22件)：

5F031CA02 ,  5F031FA07 ,  5F031GA02 ,  5F031HA08 ,  5F031HA33 ,  5F031HA37 ,  5F031HA38 ,  5F031JA08 ,  5F031JA17 ,  5F031JA46 ,  5F031LA15 ,  5F031MA02 ,  5F031MA26 ,  5F031MA27 ,  5F031NA11 ,  5F031NA13 ,  5F031NA14 ,  5F031NA16 ,  5F031PA02 ,  5F031PA03 ,  5F046KA04 ,  5F046KA07